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アメリカを訪問中の甘利経済産業大臣は８日、グティエレス商務長官と会談し、特許や商標などの知的財産権保護のため、日米が協力を強化することで一致しました。
会談の後の記者会見で両大臣は、日米が今年中に特許を出願する際の書類を試験的に共通化すること、さらに審査情報の共有化を進めることで合意したと述べました。
これによって一方の国で特許を取得した後に、もう一方の国で同じ特許を取る場合、これまで２年以上かかっていた審査期間が、２ヶ月余りと飛躍的に短縮されることになります。
甘利経産大臣は「知的財産権の保護において世界のモデルとなるシステムだ」と、合意の意義を強調しました。（09日09:37）
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